镭射膜的制作工艺比较复杂。它采用的是真空腔镀铝方式。将蒸发舟加热至1400—1500℃，连续送到蒸发舟上的铝丝冷化成铝蒸汽，由于基膜具有静电吸附力，将铝分子吸附在薄膜表面，再经过冷却沉积，从而将铝均匀地喷镀在连续卷取的薄膜表面形成镀铝膜，再经过激光雕刻的镭射版包在辊筒上，在130℃的温度下模压后，形成镭射膜。镭射版包在辊筒上，不能够完全无缝结合，于是就在镭射膜上留下了0.5mm-2mm的版缝。
