发布时间：2012/3/19 来源： 关键词：
镀铝薄膜通常应用于具有阻隔性或遮光性要求的包装上使用，因此，镀铝层的厚度和表面状况以及附着牢度的大小将直接影响其上述性能。镀铝膜的检验主要体现在厚度、镀铝层牢度和镀铝层的表面状况等方面。
1、镀铝层厚度测量
由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄，因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度，常用的检测方法有：
电阻法
电阻法是利用欧姆定律来对镀铝层的厚度进行测量，根据欧姆定律R＝ρ×L/S，单位面积镀铝薄膜的电阻值越小，其镀铝层的厚度越厚，反之则越薄。
电阻法检测镀铝层的厚度用表面电阻来表示，单位是Ω/□，数值越大说明镀铝层厚度越薄，一般真空镀铝薄膜的表面电阻值为1.0－2.5Ω/□，国家标准GB/T 15717-1995《真空金属镀层厚度测试方法电阻法》对这一方法进行了详细的规定。
光密度法
光密度（OD）定义为材料遮光能力的表征。它用透光镜测量。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。
光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。计算公式为
OD=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）
通常镀铝膜的光密度值为1－3（即光线透过率为10％－0.1％），数值越大镀铝层越厚，美国国家标准局的ANSI/NAPM IT2.19对试验条件做了详细规定。
OD值、方阻值和铝层厚度对照表
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OPITICAL DENSITY/光密度
OD值
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RESISTIVITY/电阻值
Ohm/Square 方阻值
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AL THICKNESS/铝层厚度
Å 埃
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1.6
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3
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320
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1.8
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2.7
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360
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2.0
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2.35
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400
|
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2.2
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2.05
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440
|
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2.4
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1.8
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480
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2.6
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1.55
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520
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2.8
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1.3
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560
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3.0
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1.0
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600
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注：1um＝1000纳米＝10000埃
2、镀铝层附着牢度的检测
镀铝层牢度通常的检测方法是胶带检测法，即将长15－20cm ，宽0.5-1 inch的3M Scotch胶带贴合在镀铝薄膜的镀铝层上并将其压平，然后以均匀的速度将胶带剥离，观察并估计镀铝层被剥离的面积，面积小于10％为一级、小于30％为二级、大于30％为三级。
胶带检测法只是一种定性的检测方法，只适合于一般的定性比较，如果镀铝层的附着牢度超过胶带的粘结力，则分别不出镀铝层附着牢度的差别。现在常用的定量检测方法是在一定的温度、压力和时间下，用EAA薄膜（厚度20－50um，AA含量一般在9％左右）与镀铝膜的镀铝层进行热封，将热封后的样品裁成15mm宽，在拉力试验机上进行剥离试验，观察并记录剥离力的大小以及镀铝层被剥离的面积。
3、外观检验
镀铝薄膜的外观检验主要包括如下方面的内容：
（1）针孔（溅射点） 镀铝时如蒸发舟的温度控制不良或送丝点的位置不好等情况会造成铝液发生溅射，如溅射的铝液达到薄膜上会在薄膜上形成小的针孔，镀铝薄膜上的针孔过多会造成薄膜阻隔性能的下降。一般情况下允许镀铝薄膜的针孔数量为2－3个/m2。
（2）镀空线（轨道线） 用缠绕式真空镀铝机生产镀铝薄膜时，如基材薄膜在蒸镀区有皱折，则折叠在里面的薄膜就不会有铝层附着，从而在镀铝薄膜上形成线状的铝层较浅的区域被称为镀空线。镀空线主要在CPP、PE等性质较软的基材薄膜上产生。
（3）镀铝面刮伤（划痕） 这种现象主要是由于镀铝薄膜在运转过程中，镀铝层被导辊上的异物损伤造成。
镀铝层的厚度测试现在所知的有四种：
1、高倍电子显微镜直接测量，精确度为10E-10米，也就是0.1纳米（1米＝1000mm，1mm＝1000微米，1微米＝1000纳米，1纳米＝10埃米）。镀铝层的厚度一般为30埃米至800埃米之间。－－这个方法对镀铝层厚度方向上的断面取样手法要求极高，其精确度影响较大，但是所得数据是最为直接的物理测量。
2、方块电阻法测量，我国有国家标准：GB/T 15717-1995 《真空金属镀层厚度测试方法电阻法》。此标准中有详细的方法描述，你有兴趣可以下载下来看看。－－这是一种模拟检测手段，有一定误差，尤其是对半透明镀铝膜的检测，简直无法进行。
3、用光密度仪进行检测：目前这种仪器在物理学的原理方面是一样的，但是奇怪的是连美国都有两家公司生产的光密度仪居然差别很大，一种是TOBIAS牌的，另一种是爱色丽（X-rite)生产的系列仪器。－－它是用光学透视的方法来换算镀铝层的厚度，也是一种模拟检测方法。这种仪器可以适用于半透明镀铝膜，也能适用于不透明镀铝膜。
4、用透光率仪进行检测：仪器很多，但全球标准都不统一，也是一种模拟检测方法，适用于半透明镀铝膜的检测。