真空镀铝膜的原理

真空镀铝膜(镭射镀铝膜)是指在高真空状态下，通过高温将铝线熔化蒸发，铝蒸发沉淀吸附在柔性材料表面，使这些表面具有金属光泽，形成一层保护层，具有技术上的特性，从而能够适合软包装最终产品的特定用途。
需要蒸镀的薄膜材料放置在原料处，薄膜按照一定的方式穿过一系列的导辊，连接在收料轴上，放入密封的真空室中。采取三级真空泵抽真空，当真空室中的真空度达到lO-4Torr以上时，预先安装好的蒸发舟开始升温加热。达到1400℃以上后，铝线开始熔化蒸发，镀铝基材以400～600米/分的运行速度，通过布满来自蒸发舟上的铝蒸发的区域时，铝蒸发被吸附沉积在薄膜表面；经过镀铝的薄膜温度一般都很高，因此需要冷却，否则薄膜的形状和性质都会发生改变，给用户的使用带来意想不到的问题。因此，采用能达到-5℃～-10℃的冷却系统来冷却，经过冷却的镀铝膜的温度可控制在适当的范围内：通常采用红外线自动膜厚检测仪来检测镀铝膜的外观等其他指标。